Durch gezielte Hinzumischung von Fremdatomen wird die elektrische Leitfähigkeit eines Halbleiters erhöht, indem zusätzliche leichtbewegliche Elektronen (n-Dotierung) oder „Löcher“ (fehlende Elektronen; p-Dotierung) in das Material eingebracht werden. Dotierte Halbleiter werden zur Herstellung von pn-Übergängen in Solarzellen und in elektronischen Bauteilen verwendet. Im Standard-Solarzellenprozess wird Silizium mit sehr geringen Konzentrationen von Bor zur p-Dotierung und Phosphor zur n-Dotierung versetzt.